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5mm VIS-NIR Coated, UV Fused Silica Right Angle Prism

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Stock #27-368 Nouveau 3-4 jours
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Tolérance Angulaire (arcsec):
±15
Traitement:
VIS-NIR (400-1000nm)
Substrat: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica (Corning 7980)
Qualité de Surface:
40-20
Type:
Right Angle Prism
Tolérance Dimensionelle (mm):
+0.00/-0.10
Biseau:
Protective bevel as needed
Ouverture Utile (%):
90
Longueur de l'Hypoténuse (mm):
7.10
Longueur des Côtés (mm):
5.00
Orientation de l'Image:
Left-Handed
Remarque:
Coating on Entrance/Exit Faces
Spécification du Traitement:
Rabs ≤0.25% @ 880nm
Ravg ≤1.25% @ 400 - 870nm
Ravg ≤1.25% @ 890 - 1000nm
Déviation du Faisceau (°):
90
Gamme de Longeur d'Onde (nm):
400 - 1000
Damage Threshold, Reference: Damage threshold for optical components varies by substrate material and coating. Click here to learn more about this specification.
5 J/cm2 @ 532nm, 10ns
Power (fringes) @ 632.8nm:
1.25
Irregularity (fringes) @ 632.8nm:
0.20

Conformité réglementaire

RoHS 2015:
Conforme
×
Certificate of Conformance:
Visionner
×
Reach 235:
Conforme
×

Description commune pour les Produits de la même Famille

  • Traitements BBAR de l'UV au NIR
  • Idéaux pour les sources laser de faible puissance
  • Tailles allant de 5 à 25 mm

Les Prismes à Angle Droit en Silice Fondue UV Traités BBAR TECHSPEC® courbent la trajectoire d'une image ou redirigent la lumière à 90°. Dotés d'un traitement antireflets à large bande (BBAR) sur les surfaces d'entrée et de sortie, ces prismes offrent une meilleure efficacité de transmission que les Prismes à Angle Droit en Silice Fondue UV non traités. Fabriqués à partir de silice fondue UV, ces prismes se caractérisent par une faible dilatation thermique et une excellente transmission dans les spectres UV, visible et infrarouge proche. Les Prismes à Angle Droit en Silice Fondue UV Traités BBAR TECHSPEC® sont idéaux pour une large gamme d'applications scientifiques et industrielles, y compris les appareils médicaux, l'inspection des semi-conducteurs et l'instrumentation à base de laser.

 
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