Miroir Ti:Saphir en Silice Fondue 800 nm, 12,7 mm de dia., 6,35 mm d'épaisseur, AOI 45 degrés

Description commune pour les Produits de la même Famille

• Réflectivité >99,8% aux fréquences fondamentales et harmoniques des lasers Ti:saphir
• Qualité de surface 10-5 pour une dispersion réduite dans les applications laser
• Seuil de dommage laser élevé

Les Miroirs Raie Laser Ti:Saphir TECHSPEC^® offrent une réflectivité de >99,8% pour les fréquences fondamentales et harmoniques du laser Ti:saphir à un angle d'incidence (AOI) de 45° et à un AOI de 0-45°. Ces miroirs laser sont conçus avec un substrat en silice fondue pour une excellente stabilité thermique et sont traités pour 800 nm, 400 nm ou 266 nm qui sont respectivement la fréquence fondamentale et la deuxième harmonique. Pour minimiser les effets de dispersion, ces miroirs présentent une qualité de surface élevée de 10-5 et une planéité de surface de λ/10. Les Miroirs Raie Laser Ti:Saphir TECHSPEC^® sont idéaux pour une gamme d'applications laser Ti:saphir telles que l'imagerie multiphotonique, la spectroscopie ultrarapide et le micro-usinage à froid.