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Miroirs Multicouches Attosecondes EUV/XUV d’UltraFast Innovations (UFI)

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UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors
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  • Conçus pour des impulsions de 330 attosecondes à 65 eV (19 nm)
  • Traitement multicouches avec une réflectivité maximale de 38%
  • Substrats superpolis d’une rugosité de surface ≤1 Å (angström)
  • Miroirs Plans Ultraviolets Extrêmes et Miroirs Sphériques Ultraviolets Extrêmes conçus à 3,5 nm également disponibles
  • Disponibles en stock
  • Pas de quantité ou de valeur minimum de commande

Spécifications

Diamètre (mm):
25.40 ±0.13
Substrat:
Fused Silica (Corning 7980)
Surface Arrière:
Commercial Polish
Spécification du Traitement:
Rs > 38% @ 65eV/19nm
Traitement:
EUV Multilayer (19nm)
Angle d'Incidence (°):
5
Ouverture Utile (%):
80
Longueur d'Onde de Conception DWL (nm):
19
Bords:
Fine Ground
Rugosité de Surface (Angstroms):
<1
Énergie Centrale (eV):
65 ±2
Largeur de Bande (eV):
6
Durée d’Impulsion Compatible:
330 attoseconds
Épaisseur au Bord ET (mm):
6.35 ±0.20
Réflexion à la Longueur d'Onde de Conception (%):
>38
 Titre   Comparer   Numéro de Stock   Prix  Achat
Miroir Plan Multicouches EUV Attosecondes, 25,4 mm de dia., 65 eV, 5° #16-765 €2.205,00   Demande de Devis  
  • 3-4 jours
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Miroir Concave Multicouches EUV/XUV Attosecondes, 25,4 mm de dia. x 250 mm EFL, 19 nm (65 eV), 5° #16-766 €2.205,00   Demande de Devis  
  • 3-4 jours
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Miroir Concave Multicouches EUV/XUV Attosecondes, 25,4 mm de dia. x 500 mm EFL, 19 nm (65 eV), 5° #16-767 €2.205,00   Demande de Devis  
  • 3-4 jours
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Les Miroirs Multicouches Attosecondes pour l’Ultraviolet Exrême (EUV/XUV) d’UltraFast Innovations (UFI) sont conçus pour diriger, focaliser et modeler les impulsions attosecondes. Leur traitement multicouche est centré à 65 eV (19 nm) avec une largeur de bande de 6 eV (1,8 nm) et fournit un pic de réflectivité de 38% pour la lumière polarisée s. Ces miroirs supportent des impulsions EUV d'une durée de 330 attosecondes. Les Miroirs Attosecondes pour l’Ultraviolet Exrême (EUV/XUV) sont idéaux pour générer et modeler des impulsions attosecondes basées sur la génération d'harmoniques élevées (HHG), les lasers à électrons libres (FEL) ou d'autres applications optiques quantiques.

Le dépôt par faisceau d'ions de précision atomique permet d'obtenir des couches de traitement atomiquement lisses. Ces miroirs permettent un contrôle précis de la longueur d'onde et de la phase spectrale avec une efficacité élevée dans une gamme croissante d’applications. La science de l'attoseconde repousse les limites des lasers ultrarapides, donnant accès à certains des processus scientifiques les plus fondamentaux, comme le mouvement des électrons. Les miroirs EUV sont également connus sous le nom de miroirs XUV/rayon X doux. Le principe physique qui sous-tend les miroirs multicouches attoseconde EUV est l'interférence du rayonnement EUV réfléchi et dispersé par chaque interface de la pile multicouche. Des miroirs plats et concaves d'un diamètre de 25,4 mm sont disponibles. Veuillez nous contacter si votre application nécessite un Miroir Multicouche EUV avec une énergie centrale, une largeur de bande ou d'autres spécifications personnalisées.

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