Diamètre (mm):

50.80

Angle d'Incidence (°):

78

Fused Silica (Corning 7980)

Traitement:

Dielectric Multilayer AR

Réflexion (%):

>40

Qualité de Surface:

20-10

Épaisseur (mm):

5.08 ±0.1

Type:

Dichroic Filter

Parallélisme (arcmin):

<5

Tolérance Dimensionelle (mm):

+0.0/-0.2

Gamme de Longeur d'Onde (nm):

20 - 40

Surface Figure, RMS:

<λ/10 @ 633nm

Conformité réglementaire

RoHS:

Conforme

Certificate of Conformance:

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Description commune pour les Produits de la même Famille

Séparent l'EUV de la source laser NIR dans la génération d'harmoniques d'ordre élevé
Conçus pour des seuils de dommage élevés
Prise en charge des applications de 10 à 40 nm
Disponibilité en stock
Pas de quantités minimum de commande, pas de frais de lots de traitement

Les Filtres Dichroïques pour l'Ultraviolet Extrême (EUV), également connus sous le nom de séparateurs de faisceau, sont destinés aux applications de génération d'harmoniques élevées en offrant une efficacité de séparation élevée entre les longueurs d'onde EUV et NIR. Dotés d'un substrat en silice fondue, ces filtres supportent des puissances laser plus élevées que les séparateurs de faisceau à l’angle de Brewster et les filtres EUV. Les Filtres Dichroïques EUV offrent une large bande passante de 5 à 40 nm. Outre la génération d'harmoniques élevées, ces miroirs peuvent également être utilisés dans des systèmes qui prennent en charge les applications EUV, telles que la lithographie EUV, le nano-usinage EUV, l'imagerie diffractive cohérente et la génération d'impulsions attosecondes ultrarapides.

Filtre Dichroïque EUV/IR, 20-40 nm, 50,8 mm de dia.

Conformité réglementaire

Description commune pour les Produits de la même Famille