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Tampon en Silice Nanostructuré (Linéaire) LightSmyth™ de Coherent®, 855 nm, Profond. Rainures 200 nm, 25 x 25 mm

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Période (nm):
855 ±42.75
Profondeur de Rainure (nm):
200 ±30
Largeur de Ligne (nm):
425 ±42.5
Dimensions (mm):
25.00 x 25.00
Ouverture Utile CA (mm):
24.00 x 24.00
Traitement:
Uncoated
Construction:
RIE Grating
Longueur (mm):
25.00
Numéro de Modèle:
1304077
Substrat: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Single Crystal Silicon
Qualité de Surface:
60-40 (within CA)
Épaisseur (mm):
0.68 ±0.05
Type:
Nanopatterned Silicon Stamp
Largeur (mm):
25.00

Conformité réglementaire

RoHS:
Certificate of Conformance:

Description commune pour les Produits de la même Famille

  • Surfaces rainurées texturées à l'échelle nanométrique
  • Période et profondeur des rainures variables
  • Idéaux pour les applications de recherche en nanophotonique

Les Tampons en Silice Nanostructurés LightSmyth™ de Coherent® sont des surfaces texturées à l'échelle nanométrique dessinées sur des substrats en silicium monocristallin. Par gravure ionique réactive, des rainures linéaires de section trapézoïdale sont gravées dans la surface du substrat, ressemblant à des réseaux conventionnels. Le processus de gravure permet de spécifier différentes périodes et profondeurs pour ces rainures, ainsi que des motifs plus complexes tels que des réseaux. Les Tampons en Silice Nanostructurés LightSmyth™ de Coherent® sont idéaux pour les applications de recherche en nanophotonique dans les domaines de l'optique et de la photonique, de la biologie, de la chimie, de la nanoimpression et de la microfluidique.

Remarque : II-VI est désormais Coherent Corp.

SEM Image of 855nm, 200nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Cross Section)
SEM Image of 855nm, 200nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Cross Section)
SEM Image of 855nm, 200nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Top Down)
SEM Image of 855nm, 200nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Top Down)
 
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