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High Resolution Microscopy Resolution Target, #37-539
Les Mires pour la Microscopie Haute Résolution ont été conçues grâce à la méthode de lithographie par faisceau d’électrons haute précision. Les motifs sont gravés sur un substrat en silice fondue de 10 × 10 mm² à large transmission spectrale (DUV-VIS-NIR), sur lequel est appliquée une couche de chrome à haute densité optique. En retirant la couche de chrome, les motifs pouvent atteindre 100 nm. Ces mires fournissent une excellente stabilité dimensionnelle et sont montées sur un porte-lame de microscope en métal. Les motifs négatifs des mires permettent aux structures d’être transparentes, tandis que l’arrière-plan est bloqué par une couche de chrome.
Les Mires USAF pour la Microscopie Haute Rés. déterminent facilement la limite de résolution d’un objectif et sont constituées de 59 motifs linéaires avec 7,5 à 3300 lp/mm en alignement horizontal et vertical. Ce type de mire présente également 5 sténopés ayant des diamètres de 4,0 à 0,25 μm, ce qui permet d’apporter une description détaillée de l’optique de micro-imagerie.
Les Mires Étoilées pour la Microscopie HaK14ute Rés. sont constituées de 5 étoiles de Siemens. Ces mires ont une particularité ; le centre des étoiles est fabriqué avec précision pour atteindre une largeur minimale de 150 nm. Les mires étoilées sont parfaites pour déterminer la résolution des objectifs de microscope avec des ouvertures numériques très élevées.
La Mire Damier pour la Microscopie Haute Rés. présente une dimension totale de 9,0 x 9,0 mm², avec des carrrés de 50 x 50 µm². Le damier est idéal pour tester l’inclinaison et la distorsion de l’image, et également pour déterminer la qualité d’image en raison de ses bords droits et nets.
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